feedback

AI саммари

Японская компания DNP совместно с Canon разрабатывает технологию нанопечати для производства 1,4-нм чипов к 2027 году. Эта технология обещает быть значительно более энергоэффективной и дешевой, чем EUV от ASML, но сталкивается с вызовами в скорости и выходе годных кристаллов. Разработка создает потенциал для передела рынка полупроводниковой литографии, предлагая шанс Canon, Nikon и Fujifilm конкурировать с доминирующей ASML.
от FlowFeed AI
Обновлено: 1 day ago

Японская компания Dai Nippon Printing (DNP) активно разрабатывает новые материалы, которые к 2027 году позволят производить чипы по технологии 1,4 нм на установках Canon. Это значительный шаг вперед, учитывая, что Canon уже тестирует свою технологию на уровне 5 нм, а Intel получила одну из таких установок еще в 2024 году.



Технология нанопечати, которую развивают DNP и Canon, обладает впечатляющими преимуществами. Теоретически она требует на 90% меньше энергии по сравнению с экстремальной ультрафиолетовой литографией

"EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) — это передовая технология в производстве полупроводников, использующая свет с очень короткой длиной волны (13,5 нм) для создания миниатюрных структур на кремниевых пластинах, позволяя производить более мощные и компактные чипы."
, а стоимость оборудования для нее в 60 раз ниже, чем у аналогичных систем ASML, лидера в этой области. Однако пока остаются вопросы к скорости производства и выходу годных кристаллов (успешных чипов).



Крупные игроки рынка, такие как Intel, TSMC, Samsung, Micron и KIOXIA, уже проявили интерес к этой разработке. Тем не менее, их текущие фабрики построены на классической литографии, и переход на новую технологию будет крайне дорогим и сложным. Зато для японских компаний Canon, Nikon и Fujifilm это открывает уникальную возможность вернуться в борьбу за долю на рынке, который на протяжении многих лет практически полностью контролируется нидерландской ASML.

Японская DNP и Canon: 1,4-нм чипы и дешевая нанопечать
Link copied